題名: | Measurement and Prediction of Residual Stress in the Mid-Infrared (SiO2/Ge)^x Multilayer Thin Films |
作者: | 田春林 |
作者群: | Hong-Yi Lin、Chuen-Lin Tien* |
系所/單位: | 電機工程學系 |
期刊名/會議名稱: | Optics & Photonics Taiwan, International Conference (OPTIC 2019) |
會議地點 : | 中興大學 |
會議舉行國家 : | 臺灣 |
日期: | 12-05-19 |
會議資料 : | 摘要集 |
學年度: | 108 |
分類: | 會議論文 |
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C108312CE110086_001.pdf Restricted Access | 402.26 kB | Adobe PDF | 檢視/開啟 |
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