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dc.contributor.author林成利
dc.contributor.otherCheng-Li Lin*、Bo-Wei Zhong、Yao-Jen Lee
dc.date108
dc.date.accessioned2020-06-15T03:15:53Z-
dc.date.available2020-06-15T03:15:53Z-
dc.date.issued10-24-19
dc.identifier.urihttp://dspace.fcu.edu.tw/handle/2376/1495-
dc.relation.ispartofseries2019 Int. Electron Devices and Materials Symposium (IEDMS)
dc.relation.isversionofPO5-16 (Poster)
dc.titleCharacteristics of Nano HfO2/SiN Gate Stack Junctionless Poly-Si FET for Non-volatile Memory Application
dc.contributor.department電子工程學系
dc.identifier.AccessionNumber0013
teacher.countryTaiwan
teacher.locationFour Points by Sheraton, Taoyuan Airport MRT A9 Linkou Station
teacher.media論文集+CD
teacher.international國際性
teacher.type會議論文
分類:會議論文

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