完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 鞠曉山 | |
| dc.date | 93學年度 | |
| dc.date | 第二學期 | |
| dc.date.accessioned | 2009-06-03T03:17:55Z | |
| dc.date.accessioned | 2020-05-22T08:30:06Z | - |
| dc.date.available | 2009-06-03T03:17:55Z | |
| dc.date.available | 2020-05-22T08:30:06Z | - |
| dc.date.issued | 2007-11-06T02:01:42Z | |
| dc.identifier.other | D9151434 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.lib.fcu.edu.tw/handle/2377/486 | - |
| dc.description.tableofcontents | 摘要.............................................................................................I 目錄............................................................................................II 圖目錄......................................................................................IV 表目錄.......................................................................................V 第一章 緒論..............................................................................1 1-1 前言.............................................................................1 1-2 文獻回顧.....................................................................2 1-3 研究動機.....................................................................4 第二章 基本理論....................................................................6 2-1 光學薄膜.....................................................................6 2-2 光學薄膜鍍膜方法.....................................................6 2-2-1 物理氣相沉積(PVD).........................................7 2-2-2 電子槍蒸鍍工作原理........................................8 2-2-3 離子源助鍍之原理............................................9 2-3 薄膜應力...................................................................13 2-3-1 薄膜應力分析..................................................13 2-3-2 內應力成因......................................................15 2-4 應力量測方法...........................................................16 2-4-1 懸臂樑法..........................................................16 2-4-2 牛頓環法..........................................................17 2-4-3 X光繞射法.......................................................18 2-4-4 干涉儀法..........................................................19 2-5 折射率及消光係數量測...........................................23 第三章 儀器及工具................................................................26 3-1真空鍍膜機..................................................................26 1.真空系統...................................................................26 2.電子槍蒸鍍系統.......................................................27 3.監控系統...................................................................29 3-2紫外/可見光光譜儀（UV-VIS Spectrophotometer）.30 第四章 應力比較與分析........................................................31 第五章 結論............................................................................34 參考文獻..................................................................................35 III 逢甲大學學生報告 ePaper(2005 年) | |
| dc.format.extent | 42 | |
| dc.format.extent | 737995 bytes | |
| dc.format.extent | 1832 bytes | |
| dc.format.mimetype | application/pdf | |
| dc.format.mimetype | text/plain | |
| dc.language | 中文 | |
| dc.language.iso | zh_TW | |
| dc.relation.isbasedon | [1]J. A. Ruffner, M. D. Himel, V. Mizrahi, G. I. Stegeman, and U. J. Gibson, Appl.Opt., Vol. 28, No. 24, 5209-5213(1988). [2]P. J. Martin, H. A. Macleod, R. P. Netterfield, C. G. Pacey, and W. G. Sainty, Appl.Opt., Vol. 22, No. 1, 178-184(1983). [3]李正中, 薄膜光學與鍍膜技術, 第四版，藝軒圖書出版社，P.338, (2004). [4]A. A. J. Al-Douri,Optica Acta, Vol.33,1207(1986). [5] M. Hacskay, and C. J. Feldman, Appl.Phys.,33,3042(1962). [6] P. Goldfinger, and P. Jeunehomme, Adv.Mass.Spectron. ,1,534(1959). [7] W. R. Oliver, Optica Acta,17,593(1970). [8] W. R. Oliver, Phil,Mag. ,21,1229(1970). [9]E. Barocela,J.Vac.Sci.Technol. A, 4, 1983(1986). [10]H. K. Pulker,Coatings On Glass (Elsevier,New York,1984). [11]M. D. Himel,J. A. Ruffner and U. J.Gibson,Appl.Opt.,27,2810(1988). [12]H. K. Pulker and J. Maser,Thin Solid Films,59,65(1979). [13]H. Bangert and H. Pfefferkorn , Appl. Opt. ,19, 3878(1980). [14] J. T. Cox and J. E. Waylonis,W.R.Hunter, J.Opt. Am. ,Vol.49,807 (1959). [15] H. Cox,and J. Waylonis, Opt.Soc.Am. ,48,281(1958). [16]藺善文,陳源樹,田春林 ,“起始鍍材對蒸鍍TiO2薄膜光學特性及穩 定度之比較”,第一屆應用科技研討會論文集,(2004). [17] G. Laukaitis, S. Lindroos, S. Tamulevicius,and M. Leskela Applied SurfaceScience, 185, 134(2001). [18] J. A. Ruffner, M. D. Himel, V. Mizrahi, G. l. Stegeman, and U. J. Gibson, APPLIED OPTICS, Vol. 28, No. 24, 5209(1989). [19] 曲喜新、過壁君, 薄膜物理, 電子工業出版社, P.81. [20] P. V. Patil, R. K. Pwi,and V. Puri, Materials Chemistry and Physics ,49,156-159(1997). [21] G. Laukaitis, S. Lindroos, S. Tamulevicˇius , M. Leskela‥,and M.Racˇkaitis, Materials Science and Engineering, A288, 223–230(2000). | |
| dc.subject | 硫化鋅 | |
| dc.subject | 電子槍蒸鍍輔以離子源助鍍法 | |
| dc.subject | 應力 | |
| dc.subject | 熱應力 | |
| dc.subject | 光學常數 | |
| dc.subject | 熱應力 | |
| dc.title | 以離子源助鍍法蒸鍍ZnS光學薄膜應力特性之研究 | |
| dc.type | 大學生專題報告 | |
| dc.description.course | 薄膜光學 | |
| dc.contributor.department | 資訊工程學系,資訊電機學院 | |
| dc.description.instructor | 田春林 | |
| dc.description.programme | 資訊電機學院 | |
| dc.description.programme | 電機工程學系 | |
| 分類: | 資電093學年度 | |
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|---|---|---|---|---|
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