完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 林成利 | |
| dc.contributor.other | Cheng-Li Lin、Tai-Yin Lin、Yu-Zhang Zhu、Sheng-Huang Chang、Yao-Jen Lee | |
| dc.date | 107 | |
| dc.date.accessioned | 2020-06-15T03:14:26Z | - |
| dc.date.available | 2020-06-15T03:14:26Z | - |
| dc.date.issued | 04-26-19 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.fcu.edu.tw/handle/2376/915 | - |
| dc.relation.ispartofseries | 26th Symp. on Nano Device Technology (2019 SNDT) | |
| dc.relation.isversionof | AA00070-1, p.19 | |
| dc.title | Electrical and Ferroelectric Characteristics of HfZrO2 Capped with Thin HfON Films on MFIS Structure for Future Nanoscale FET Application | |
| dc.contributor.department | 電子工程學系 | |
| dc.identifier.AccessionNumber | 0038 | |
| teacher.country | 臺灣 | |
| teacher.location | 台灣半導體研究中心奈米電子研究大樓國際會議廳 | |
| teacher.media | 摘要集 | |
| teacher.international | 非國際性 | |
| teacher.type | 會議論文 | |
| 分類: | 會議論文 | |
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