| 題名: | Electrical and Ferroelectric Characteristics of HfZrO2 Capped with Thin HfON Films on MFIS Structure for Future Nanoscale FET Application |
| 作者: | 林成利 |
| 作者群: | Cheng-Li Lin、Tai-Yin Lin、Yu-Zhang Zhu、Sheng-Huang Chang、Yao-Jen Lee |
| 系所/單位: | 電子工程學系 |
| 期刊名/會議名稱: | 26th Symp. on Nano Device Technology (2019 SNDT) |
| 會議地點 : | 台灣半導體研究中心奈米電子研究大樓國際會議廳 |
| 會議舉行國家 : | 臺灣 |
| 日期: | 04-26-19 |
| 會議資料 : | 摘要集 |
| 學年度: | 107 |
| 分類: | 會議論文 |
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