光學薄膜表面特性量測方法之研究

Abstract

在光電產業快速發展之際，製鍍高品質光學薄膜可以有效提升光學系統性能，而薄膜表面的檢測為製鍍高品質光學薄膜之重要參考依據。因此，本研究提出一套自行研發之光學薄膜表面量測系統，此系統以Twyman-Green干涉儀為其架構並結合自行設計的軟體程式，利用小波轉換將擷取之影像分高、低頻呈現，並搭配灰階共生矩陣(GLCM)與熵值(entropy)運算，以快速測定薄膜表面平坦度之良窳。此外，利用自行設計的軟體分析處理干涉圖，進而可量測薄膜厚度。通常厚度之量測須運用干涉儀及精密判讀干涉條紋的位移量來達成，否則將造成量測上的誤差，因此，為了提升干涉式膜厚量測之精確度，我們利用Wiener濾波器有效地濾除雜訊，並且經由干涉圖形之細線化，可使程式精確地自動判別條紋之間距與條紋位移量，達成量測薄膜厚度之目的。