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dc.contributor.author廖偉傑
dc.date98學年度第一學期
dc.date.accessioned2010-01-25T14:15:13Z
dc.date.accessioned2020-05-29T08:37:01Z-
dc.date.available2010-01-25T14:15:13Z
dc.date.available2020-05-29T08:37:01Z-
dc.date.issued2010-01-25T14:15:13Z
dc.date.submitted2010-01-25
dc.identifier.otherD9572768
dc.identifier.urihttp://dspace.fcu.edu.tw/handle/2377/726-
dc.description.abstract複晶矽薄膜電晶體因為擁有較高的場效應遷移率與驅動電流,在許多方面像主動式液晶顯示器、太陽能電池、記憶元件等的發展已經受到矚目。然而,傳統的複晶矽薄膜電晶體其特性已經不能夠滿足市場所需要的速度與驅動電流。 隨後,從許多已發表的論文中得知藉由使用雙閘極使元件有效的增加複晶矽薄膜電晶體的驅動電流,但是一個高性能的雙閘極複晶矽薄膜電晶體需要困難的製程技術而且還有相當大的漏電流和電場。而後有人提出了以雙通道的型式來增加複晶矽薄膜電晶體的驅動電流並降低電場,不過此結構的不對稱與材料間的應力問題使得在結構應用上的不理想。 在本實驗中,我們提出了新式單閘極雙通道複晶矽薄膜電晶體,且此結構藉由加入抬升式汲源極結構和Offset結構來提供了較好的元件特性與較低的串聯電阻,從我們的模擬結果中得知,靠近汲極端的電場強度與傳統型的元件比較之下明顯降低了許多,如此一來,就會改善一些不理想效應。
dc.description.tableofcontents英文摘要 i 中文摘要 ii 目 錄 iii 圖 目 錄 v 表 目 錄 vi 第一章 前言 1 1-1 多晶薄膜電晶體簡介與應用 1 1-2 複晶矽薄膜電晶體的關鍵製造技術 4 1-3 不理想效應 6 1-3.1 漏電流效應 (leakage current effect) 7 1-3.2 熱載子效應 (hot carrier effect) 9 1-3.3 扭結效應 (kink effect) 11 第二章 文獻回顧與論文動機 14 2-1 動機 14 2-2薄膜電晶體結構 14 2-2.1 薄膜電晶體之基本結構 14 2-2.2 單閘極雙通道薄膜電晶體之結構發展 15 2-2.3 場引效汲極 (FID, Filed Induced Drain) 16 2-2.4 場板 (Field Plate) 17 2-2.5 抬升式汲源極 (RSD, Raised Source Drain) 18 2-2.6雙閘極薄膜電晶體(DGTFT, Double Gate Thin Film Transistor) 20 2-2.7 ECTFT (Elevated-Channel Thin Film Transistor) 20 2-2.8 雙通道薄膜電晶體 (DCTFT, Double Channel TFT) 21 2-2.9 新式單閘極雙通道薄膜電晶體 22 2-3 新式DCTFT製成步驟 23 第三章 新式單閘極雙通道薄膜電晶體之模擬分析 27 3-1 前言 27 3-2 DCTFT結構 27 3-3 Top channel與Bottom channel結構之探討 28 3-4 側蝕寬度對DCTFT結構之探討 32 3-5 Spacer寬度對DCTFT結構之探討 34 3-6 新式DCTFT結構與傳統型結構之電性探討 36 第四章 結論 44 參考文獻 45
dc.format.extent54p.
dc.language.isozh
dc.rightsopenbrowse
dc.subject薄膜電晶體
dc.subject雙通道結構
dc.subject抬升式汲源極
dc.title高效能抬升式汲源極之新式雙通道薄膜電晶體
dc.title.alternativeHigh Performance Double-Channel Poly-Silicon Thin Film Transistor with Raised Source and Drain Structures
dc.typeUndergracase
dc.description.course專題研究(一)
dc.contributor.department電子工程學系, 資訊電機學院
dc.description.instructor簡鳳佐
dc.description.programme電子工程學系, 資訊電機學院
分類:資電098學年度

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